在體系中陽極液層的電阻遠大于研究電極與參比電極之間溶液的電阻，而通過界面電容的測定也可以推算出陽極膜的厚度。表員原猿列出了不同陽極電位時陽極膜的厚度與電阻。
 

由表中數據可見，電拋光區陽極界面膜的厚度在數十埃至員的。
 

在原有的體系中，拋光后的金屬表面無法涂上水銀，這種現象在其他金屬中也出現過，有人認為這是由于表面上產生氧化膜所致。
 

在原有交流阻抗法研究電拋光時，發現在一定的極限電流密度范圍內，隨著陽極電位的上升，表面層的電阻會直線增加，可是電容卻會減少。由此認為表面形成了固體膜，其厚度在逐漸增加。
 

電解中所產生的發光現象認為是由于固體膜受電氣破壞所致。
 

固體膜論者提出的這一系列論據均是推論性的，用界面電容法、交流阻抗法所得到的結論不能確證有固體膜存在。某些研究者將拋光后的試片清洗干凈后直接測定其表面膜，認為是形成了氧化物膜，然而銅及其合金極易被空氣氧化，在顯的真空條件下用粵除去表面氧化物后，樣品在顯條件下繼續放置然后用光電子能譜分析，又發現其表面有氧化物形成。這說明所謂的氧化物膜并非是在拋光過程中形成的，而可能是在拋光后暴露在空氣中形成的。根據我們的研究，電拋光后銅片表面氧化層的厚度(以粵則濺射銅樣品達到零價金屬銅標準峰值的時間計)與未經拋光的空白銅片表面氧化層的厚度相當(見表員原源，這表明電拋光時銅所測得的氧化物層實際上是電拋光后銅表面在空氣中停留時被氧化而形成的，這也可從拋光后銅片色澤與空白銅相似、并不發紅得到證明。此外，在猥熒~源飲定下(析氧區，圖員原猿的耘云段)電拋光時銅表面開始析氧，有可能氧化表面，但實測源號、緣號樣品氧化層的厚度并不比其他樣品的厚(時間相當)，說明源l的拋光時間內，樣品上析氧并不氧化銅表面，這也可從源號、緣號樣品的外觀與猿號樣品(拋光區，圖員原猿曲線的悅點)一樣，而與烤紅銅(已氧化的銅)的不同得到證明。
 

為了驗證上述結論，我們還用俄歇電子能譜深度剝蝕技術對在析氧電壓下電拋光的緣號樣品進行復雜深度剝蝕，所得結果如圖員原源圖員原緣是高溫氧化后銅表面的雜深度剝蝕圖。由圖可見，樣品表面的氧在濺射已達很低值并趨于穩定，在濺射內已達到穩定的低值，表明電拋光樣品表面的氧化層的確很薄，它是電拋光后銅片在空氣中氧化形成的，而不是在電拋光過程中形成的。