事實證明，拋光是獲得超光滑表面的重要加工方法，而拋光的進行主要借助于拋光液來完成，而拋光液的PH值對拋光效果有很大影響，當拋光液的PH值過小時，溶液呈酸性狀態，一般拋光效果不太明顯；而當溶液的PH值過大時，溶液呈堿性狀態，腐蝕的效果往往比酸性效果***。

    拋光液的化學拋光過程其實就是溶液對拋光元件表層的化學腐蝕作用，主要成分是二氧化硅，占整個比例的百分之七十，其余成分為堿金屬氧化物，當拋光液為中性時，主要的化學作用表現為2InSb+6[O]→In2O3+Sb2O3，表面的拋光效果似乎不太明顯。

    當拋光液的PH值為9.6時，拋光液的機械作用遠大于化學作用，去除速率比較大，導致拋光后拋光片表面產生高損傷層，粗糙度比較大；當拋光液的pH值增大為10.84～11.34時，機械作用和化學作用達到一種對等狀態時，此時化學作用的均勻性***，使得表面張力小，質量處理的一致性***，可以得到良***的表面拋光效果；當pH值大于11.67時，SiO2水溶膠在強堿的作用下，生成易溶于水的硅酸氨，使得硅溶膠中的SiO2顆粒不能起到磨削作用，變成透明的液體，此時機械作用基本失效，拋光以化學作用為主，表面蝕坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

    拋光液PH值是拋光元件表面粗糙度的重要影響因素，他是拋光元件化學拋光的重要組成部分。事實證明，當拋光壓力、溫度等外界因素相匹配時，拋光時的***佳PH值應控制在11.25左右，這時候化學拋光和機械拋光的作用相平衡，拋光效果***佳！