離子束濺射去除加工可簡稱為離子束去除加工,其加工原理是利用離子濺射,主要是一次濺射和二次濺射,它是一種***典型的原子、分子加工單位的微細加工方法和超精密加工方法。離子束去除加工裝置的結構原理圖,它由雙等離子體離子源、雙真空室、聚裝置、工作臺、電源等組成。***先把Ar、Kr、Xe等情性氣體充人低真空(1.3Pa)的離子室中,通過陰極2與陽極5之間的低氣壓直流電弧放電,使之在陽極以上的空間被電離,成為等離子體。中間電極3的電位比陽極5低,兩者都由軟鐵制成,和電磁線圖4形成很強的軸向磁場,所以以中問電極為界,在陰極和中間電極、中間電極和陽極之間形成兩個等離子體區。前者的等離子體密度較低,后者在非均勻強磁場的壓縮下,在陽極孔處形成了高密度的等離子體。經過控制電極7和引出電極8,只將正離子拉出呈束狀并加速,從陽極小孔進入高真空區(13×10-6Pa),再通過靜電透鏡所構成的聚焦裝置10聚成高密度細束的離子束,轟擊工件表面。工件裝于工作臺上的擺動裝置或回轉裝置上,可進行雙坐標直線位移、繞垂直軸的轉動和繞水平軸的擺動。離子束濺射去除加工可用于非球面透鏡的成形、金剛石刀具和壓頭的刃唐、大規模集成電路芯片圖形的刻蝕等,可加工金屬和非金屬材料。所謂離子銑、離子磨(離子減薄)、離子研磨拋光等都是離子束濺射去除的具體加工方法。